2023年11月17日消息，據(jù)國家知識產權局公告，上海新陽半導體材料股份有限公司取得一項名為“一種酸性清洗液的應用”，公開號CN117070283A，專利申請日期為2023年11月。
專利摘要顯示，本發(fā)明公開了一種酸性清洗液的應用。本發(fā)明的酸性清洗液用于清洗刻蝕灰化后的半導體芯片；所述的酸性清洗液的原料包括下列質量分數(shù)的組分：0.1-4％有機胺、0.1-9％酸、氟化物、緩蝕劑、螯合劑、表面活性劑和水，水補足余量，各組分質量分數(shù)之和為100％；所述的表面活性劑為磺酸鹽類陰離子表面活性劑；所述的酸與所述的有機胺的質量比為(1-3):1。本發(fā)明的酸性清洗液具有如下的一個或多個優(yōu)點：具有較好的清洗效果，可以抑制半導體晶圓的損傷，具有較好的BTA清除效果。
本站維權及免責聲明
- 1.凡本網(wǎng)所有原始/編譯文章及圖片、圖標的版權均屬中國工業(yè)清洗協(xié)會所有，如需轉載，請注明“信息來源：中國工業(yè)清洗協(xié)會”。違反上述規(guī)定者，本網(wǎng)將保留追究其侵權責任的權利。
- 2.凡本網(wǎng)注明“信息來源：XXX （非中國工業(yè)清洗協(xié)會）”的作品，均轉載自其它媒體，轉載目的在于傳遞更多的信息，并不代 表本網(wǎng)觀點和對其真實性負責